Сообщаем о выходе новой версии CADFlo, включающей расчёт эффективной площади рассеивания (ЭПР) с использованием MLFMM-метода, моделирование дозы ионизирующего излучения, пристеночное кипение в каналах, улучшенный контакт с трением, новые возможности в магнитостатике и прочностном анализе, ускоренный HPMC на CPU/GPU, а также выпуск академической версии для вузов и другие улучшения.
Приглашаем ознакомиться с новыми возможностями на онлайн-вебинаре
Новые возможности CADFlo 2502
Дата: 29 января 2026
Время: 11:00 (Мск)
Новые возможности CADFlo
Электромагнетизм СВЧ
- Расчет ЭПР с использованием MLFMM-метода — быстрее в 4 и более раз, чем у зарубежных аналогов, при той же точности.
- Расчет бистатической и моностатической ЭПР.
Радиационная стойкость
- Расчета дозы ионизирующего излучения от 5 источников: электронов и протонов ЕРПЗ, электронов ИРПЗ, протонов СКЛ, протонов ГКЛ.
Гидрогазодинамика
- Пристеночное кипение — повышенная точность расчёта температуры стенки, точки кипения и паросодержания.
- Отключение компонентов при добавлении — упрощает сравнение вариантов сборок.
- Повышенная скорость расчёта лучистого теплообмена (HPMC) — в 1.5 раза быстрее на CPU и GPU.
Электромагнетизм
- Магнитостатика с линейными и нелинейными постоянными магнитами.
- Расчёт потерь в стали и ферритах по экспериментальным данным.
- Новые граничные условия: контактное сопротивление, изоляция.
- Улучшенные инструменты: задание сетки через примитивы, визуализация виртуальной силы, магнитного потока.
Прочность
- Распределённая узловая нагрузка, создающая чистый изгибающий момент. Работает с MPC с учётом поворотов.
- Линеаризация напряжений — характеристики распределения компонент тензоров изгибных и мембранных напряжений по сечению.
- Улучшенный контакт с трением — новый алгоритм устойчивый к несовпадению сеток и сложной геометрии.
- Визуализация контактного давления и касательных напряжений.
Новая академическая версия и прочие улучшения.
Подробнее о новых возможностях CADFlo 2502.
